想必近日大家也都有所了解，因为美国今年发布的，针对华为的第二次和第三次打击制裁的原因，自9月15日之后，凡是采用了美国技术的企业，都需要经过美国的同意，才能继续与华为合作，其中就包括了台积电和联发科。
台积电是华为芯片的主要代工商，而联发科是华为手机芯片的主要供货商，之前华为消费者业务CEO余承东也表示，麒麟9000可能将是华为麒麟旗舰芯片的绝版，这对华为来说是莫大的损失，不免也让我们为之惋惜。
但华为并没有因此放弃，而是提出了向跟技术努力的计划，其中就包括EDA软件、芯片IP、芯片制造设备和芯片制造原材料，可以说这四个方面，基本上囊括了芯片产业的方方面面。
虽然华为提出了这么多的根技术，但目前来看，主要制约华为的，还是在芯片制造这个环节，而其中就涉及到了芯片制造设备，在这些制造设备当中，光刻机就是最为关键的一环。
可以说如果在光刻机上实现了重大突破，那么芯片制造的问题也可以说基本得以解决，然而就在今天，中科院院长给我们带来的好消息。
今天中国科学院院长白春礼接受了记者的采访，白院长表示：我们要把美国卡脖子的清单，变成我们科研任务清单进行布局。其中就提到了芯片制造设备的关键：光刻机。
很显然，这无疑将会加速我国在光刻机事业上的进程，这一点上，其实近日英国媒体“经济学人”就正好也做出了这样的预判。
经济学人发文分析称，由于美国对华为的禁令，将助中国在科技上实现腾飞。文章指出：美国的极限施压，很可能会将中国的高科技产业逼入破釜沉舟的绝境，迫使中国不得不发展出一套不依赖美国技术的内生研发系统，到那时，美国将无法再阻止中国芯片产业的崛起。
而白院长也给出了明确的定位，那就是：工作的领域方向如果不能在国际上占有一席之地，国内不领先，那就不要做。目前一些关键核心技术攻关成立领导小组，要求每个承担重大任务的人要签署责任状。
很显然，光刻机就属于关键核心技术，根据经济学人的报道，我们可以在短期内形成一条没有美国技术的40纳米工艺生产线，而倪光南也指出，目前我们也具备了28纳米的光刻机技术，实现14纳米芯片的生产也是可以实现的。
因此，这么来看，在光刻机的突破上，主要应该集中于EUV，也就是极紫外光刻类型的光刻机，这方面实现突破，就可以一举进入7纳米、5纳米，甚至是未来3纳米和2纳米工艺的生产。
有人说，光有光刻机也不行，还需要芯片的制造技术，没错，像三星、英特尔都有光刻机，但依然在先进制造工艺上落后于台积电，然而我国在这方面其实已经有了技术储备。
当然还是要说到中科院，其实前段时间的一则报道，我们就已经看到了中科院在芯片制造技术方面的实力，这则报道是关于英特尔侵犯了中科院在芯片制造技术中有关FinFET专利的案件进展。
而去年的时候，根据媒体的报道，中科院在2纳米芯片制造上也实现了技术突破，采用的是自对准栅极的叠层垂直纳米环栅晶体管技术，为当时的世界首个。
所以这么来看，一旦EUV光刻机的问题解决，那么我们在芯片制造上将会前进一大步，到那时，就像经济学人所说的，美国将无法再阻止中国芯片产业的崛起，我们拭目以待。
